IT之家11月15日消息，韓國電子新聞報道稱，三星計劃進口更多ASML極紫外（EUV）光刻設備。
雖然由于合同中的保密條款未能披露具體細節(jié)，但證券市場消息稱，該協(xié)議將使ASML在五年內(nèi)提供總共50套設備，而每臺單價約為2000億韓元（IT之家備注：當前約11.02億元人民幣），總價值可達10萬億韓元（當前約551億元人民幣）。
目前尚不清楚其合同中的產(chǎn)品是現(xiàn)有EUV光刻設備還是下一代“High NA EUV”光刻設備。不過，目前EUV光刻設備最大的問題是產(chǎn)量有限。據(jù)官方介紹，它“比衛(wèi)星部件還復雜”，每年只能生產(chǎn)很有限的數(shù)量。據(jù)說去年是40臺，今年ASML估計是60臺。而目前需要且能購買到EUV光刻設備的廠商有五家：三星電子、臺積電、英特爾、SK海力士和美光。其中，臺積電約占供應量的70%，剩下四家公司爭奪剩下的30%。
三星電子于去年6月推出了全球首個采用全柵極（GAA）技術的3nm代工技術，因此該公司一直在努力確保采購更多EUV光刻設備，目標是在明年上半年進入3nm世代的第二代工藝，在2025年進入2nm工藝，在2027年進入1.4nm工藝。
正因如此，李在镕董事長去年6月訪問了ASML總部，與首席執(zhí)行官Peter Bennink討論了EUV采購問題，并在同年11月訪問韓國期間與Bennink進行了進一步會談。鑒于EUV的交付周期（從下單到收貨）至少需要一年，這些會議看起來確實取得了實際成果。
實際上，半導體領域分析師也對三星電子增購EUV光刻設備的計劃持積極態(tài)度。
祥明大學系統(tǒng)半導體工程教授Lee Jong-hwan說道：“三星已引進數(shù)十臺EUV光刻設備，據(jù)說每臺設備的成本約為2000億韓元，這表明該公司打算擴大3nm量產(chǎn)機會，并在未來實現(xiàn)2nm計劃。”
此前，三星電子宣布計劃到2025年擁有100臺EUV光刻機。市場估計三星目前的EUV機群約為40臺。如果這50臺設備的能夠順利交付，那么三星到2028年將能夠擁有約100臺設備。
荷蘭應用科學研究所（TNO）韓國代表Byung-hoon Park解釋稱說：“通常情況下，半導體工藝可以將每臺機器的10%用于工藝研發(fā)和測試，擁有100臺機器則意味著它們可以全天候用于研發(fā)。”
他還指出，“通過這樣做，我們將能夠確保有足夠的工藝能力來正確使用設備”，他補充說，“預計這將減少工藝過程中的時間和成本，并提高產(chǎn)量。”
“一旦我們擁有了大量的（EUV）設備，并且技術趨于穩(wěn)定，我們將能夠提高產(chǎn)量，并在代工方面取得進展”，工業(yè)研究所的專家研究員金陽邦（Kim Yang-pang）說。
