10月22日消息，據(jù)俄羅斯下諾夫哥羅德策略發(fā)展機構(gòu)公文，俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所(IPF RAS)正在開發(fā)俄羅斯首套半導體光刻設備，并對外夸下?？冢哼@套光刻機能夠使用7nm生產(chǎn)芯片，可于2028年全面投產(chǎn)。
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據(jù)介紹，他們計劃在六年內(nèi)制作出光刻機的工業(yè)原型，首先要在2024年開發(fā)一臺alpha機器。這一階段的重點不在于其工作或解決的高速性，而在于所有系統(tǒng)的全面性。
然后，到2026年，alpha應該被Beta所取代。屆時所有系統(tǒng)都將得到改進和優(yōu)化，分辨率也將得到提升，生產(chǎn)力也將提高，許多操作將實現(xiàn)機械自動化。這一階段重要的是要將其集成到實際的技術流程中，并通過“拉起”適合其他生產(chǎn)階段的設備對其進行調(diào)試。
第三步也就是最后一步，將為光刻機帶來更強的光源、改進的定位和饋送系統(tǒng)，并使得這一套光刻系統(tǒng)能夠快速準確地工作。
之前曾報道，俄羅斯目前已經(jīng)可以生產(chǎn)65nm制程的芯片，該國此前宣布了一項國家計劃，希望在2030年開發(fā)28nm制程，希望靠著對外國芯片進行逆向工程，并培養(yǎng)當?shù)匕雽w人才。
俄羅斯科學院納米結(jié)構(gòu)研究所副所長表示，全球光刻機領導者ASML近20年來一直致力于EUV曝光機，目標是讓世界頂尖半導體廠商保持極高的生產(chǎn)效率。但俄羅斯并不需要，只要根據(jù)俄羅斯國內(nèi)的需求向前推進即可。
從其他外媒的評價來看，俄羅斯的想法似乎太過天真，畢竟想在6年內(nèi)僅憑自己研發(fā)出可媲美ASML十年積淀的光刻技術實在是有點難以令人相信，且晶圓廠并非光靠光刻機就可生產(chǎn)出芯片，還需要許多外圍設備，而俄羅斯并不滿足獨立生產(chǎn)這些設備的條件。
值得一提的是，下諾夫哥羅德代表團還向大家展示了未來光刻設備的演示樣品。這套系統(tǒng)基于下諾夫哥羅德的IAP RAS開發(fā)、制造和安裝。不過他們自己也提到，這甚至不是設備原型，而是“原型的原型”。
這套演示設備雖然不能解決實際的工業(yè)問題，但它可以讓科學家有機會驗證關鍵技術的可行性，并測試進一步工作所需的其他關鍵假設。
